作者: 张海洋
出版社: 清华大学出版社
定价: 128元
装帧: 平装-胶订
丛书: 高端集成电路制造工艺丛书
ISBN: 9787302489597
本书共9章，基于公开文献全方位地介绍了低温等离子体蚀刻技术在半导体产业中的应用及潜在发展方向。以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，对传统及已报道的先进等离子体蚀刻技术的基本原理做相应介绍，随后是占据了本书近半篇幅的逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的深度解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望。 本书可以作为从事等离子体蚀刻工艺研究和应用的研究生和工程技术人员的参考书籍。
7B4电子书网所提供的电子书、电子书文档等资源，来源于互联网收集.版权归原作者所有，电子书资源只做学习和交流使用，下载后请在24小时内删除文件。虽然您在本站可以找到这些电子书资源，但除了可以在网上浏览或下载之外，我们并未授权您将这些电子书资源用于其它任何商业用途。如果因为您将本站资源用于其他用途而引起的纠纷，本站不负任何责任。本站发布的内容若侵犯到您的权益，请联系站长删除，我们将及时处理！ 站长邮箱:181989211@qq.com
