中文名:纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
作 者:(美)Sandip Kundu、Aswin Sreedhar
译 者:王昱阳、谢文遨
出版社:科学出版社
出版时间:2014年05月
ISBN:9787030400345
本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法等。
7B4电子书网所提供的电子书、电子书文档等资源，来源于互联网收集.版权归原作者所有，电子书资源只做学习和交流使用，下载后请在24小时内删除文件。虽然您在本站可以找到这些电子书资源，但除了可以在网上浏览或下载之外，我们并未授权您将这些电子书资源用于其它任何商业用途。如果因为您将本站资源用于其他用途而引起的纠纷，本站不负任何责任。本站发布的内容若侵犯到您的权益，请联系站长删除，我们将及时处理！ 站长邮箱:181989211@qq.com
